摘要:采用正交实验的方法对碱各向异性腐蚀制备单晶硅绒面进行了优化,制备的硅片样品绒面反射率为11.07，,在表面沉积减反射膜(ARC)后的平均反射率为2.56，.制绒液中NaOH的质量分数为1～3，时,制备的单晶硅绒面反射率较低.Na2SiO3的存在为反应提供了更多的起始点,所制作的绒面排列更为紧密,但Na2SiO3的浓度过高会阻碍反应进行,得不到理想的绒面.IPA可以加速反应产生的氢气泡从硅片表面逃逸,减弱NaOH的腐蚀强度,获得良好的各向异性因子.随着制绒反应时间延长,硅片表面的金字塔长大,反射率降低,这个过程是"金字塔"不断长大和被削平的过程.常温下难以制得绒面,要在减少醇挥发的情况下尽量提高反应温度.
