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镍质多孔材料的电镀修饰
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TG339

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Fabricate porous membrane by electrolytic deposition
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    对用烧结法制备的镍质多孔材料,采用电镀法生成多孔膜进行表面修饰.研究结果表明:电镀液的pH、极距、添加剂用量、Ni2+浓度、电镀时间以及电流密度和温度对膜的透气度和最大孔径的影响较大.根据正交试验结果,综合考虑产品的透气度和最大孔径,确定了最佳条件为:pH 4.5~5、极距60 mm、Ni2+浓度20 g/L、添加剂用量0.15 g/L、电流密度300 A/m2、电镀时间20 min、温度40 ℃.在此条件下可制得孔径小于0.32 μm,透气度为3×10-5 m/Pa*h的多孔膜.

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汪劲松.镍质多孔材料的电镀修饰[J].材料研究与应用,2008,(1).

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  • 在线发布日期: 2020-04-26
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