TG115.22
用直流磁控溅射方法制备的纳米Ge颗粒膜.通过XRD表征和LRS谱分析,发现沉积态颗粒膜主要为无定形态的Ge团簇,同时在溅射沉积过程中有少量Ge被氧化成非晶态的GeO.颗粒膜经过真空退火处理,形成纳米级的Ge晶和GeO晶体.退火态的膜层结构比沉积态的疏松.对于薄膜纳米颗粒的结构,提出Core-Shell结构模型,解释了Raman散射谱中新出现的150 cm-1和215 cm-1的Raman散射峰.
孟大润,肖维超,叶祥,华文宇.纳米锗颗粒膜的结构与拉曼散射[J].材料研究与应用,2005,(1).