真空阴极电弧沉积TiB2薄膜的组织结构及其摩擦学性能的研究

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真空阴极电弧沉积TiB2薄膜的组织结构及其摩擦学性能的研究
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中图分类号:TB383
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Structure and tribological properties of TiB2 films prepared by the vacuum cathodic arc deposition

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用TiB2作阴极靶,采用优化的真空阴极电弧沉积工艺制备的TiB2薄膜是由TiB2,Ti2B5,TiB和Ti组成的多相结构.薄膜的摩擦磨损试验表明:TiB2薄膜的摩擦系数为0.139,膜层寿命超过60 min,是TiN和(Ti,Al)N膜层的2倍.

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朱霞高,王成彪.真空阴极电弧沉积TiB2薄膜的组织结构及其摩擦学性能的研究[J].材料研究与应用,2002,(2).

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在线发布日期: 2020-04-26
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