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等离子体化学气相沉积的布气装置之设计
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TG174.444

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Design of gas distributor on plasma chemical vapour deposition
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    推导了在设计真空镀膜设备时,计算镀膜室内布气管的直径和出气孔孔径的公式,di=[d-41-D-4L∑im=2(n+1-m)/(h+10-6Bq)]-1/4,以达到均匀布气的目的.给出了在等离子体化学气相沉积设备中的计算实例及应用情况,实践证明,用此公式设计真空镀膜均匀布气装置是可行的.

    Abstract:

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    引证文献
引用本文

黄绍江,谢红希,侯惠君,戴达煌.等离子体化学气相沉积的布气装置之设计[J].材料研究与应用,2002,(1).

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  • 在线发布日期: 2020-04-26
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